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楼主还是很客观,即使90nm制程的光刻机有看到评论说在中芯国际产线里面吃灰,28nm去年没有开发出来,不知道今年进度怎样(一个之前在上微的同学说,工资倒挂,留不住人);
不知道点踩的都是一群YY怪吧,真正涉入半导体领域再发言,别说一款新设备,即使一款新材料导入到量产线,不顺利的话可能就是两三年,一台新设备就更长了,主要的是时间时间成本太高了,而且大量占用有经验的人力资源和测试资源!
全国产设备生产线,如果是量产线,对设备稼动率要求比较高,不然产能提不上来,初期肯定是吞金兽,可能需要几年时间进行设备改造和良率爬坡,还真得国家真金白银去堆,单靠情怀是没用的!
键盘侠们,如果信心爆棚,还请实际行动支持,别口嗨还踩别人!
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误读。照这么说,上微早就完成总装的28nm光刻机用的啥工件台?
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浸润式光刻机是28纳米制程必须的技术,所以这个报告透露出的最乐观的估计就是65纳米的光刻机可能已经没有问题了,工件台已经发货给下游集成企业了,包括上微,如果亦庄的非美化产线是真的,那么大概率是65纳米的。
此外还有一个问题,ASML不仅仅是集成商,ASML自己研发工件台,中国的上微单搞集成,对机器的部件和生产线的理解恐怕天生就比不上ASML。中国反而应该让工件台的研发部门来集成光刻机,这样效果可能更好。