我估计快的话5年能搞出7纳米光刻机来，10年赶上最新制程工艺

先五招

我们不需要你科普光刻机是怎么来的，太低估观友们的水平了！我甚至能给你科普EUV是怎么工作的。我们需要知道的是：光刻机的光源，双工件台，反射镜，软件我们是什么水平？差距多大？估计几年能做出来。高端光刻胶能做出来吗？其次，离子注入，涂胶显影机我们怎么样了？这领域美国卡脖子的几率更大。高端靶材我们还差那些？回答这些问题就行了。感觉你这期做的……凑时长哪吧？有点水呀……

我估计快的话5年能搞出7纳米光刻机来，10年赶上最新制程工艺。

理由是如下：

这些科学技术的发展主要取决4大要素： 人才，资金，体制，资源体系

1，人才  人才我们不缺，所谓高端人才缺，只是暂时现象，当投入人才在这一方面从事这个行业，几年内就能成为高级人才。

2，资金   现在不缺了，甚至短期过滥了。 长期看由于有广大的市场前景驱动，后续研发搞定后的跟进也不会有啥大问题。

3，体制    现在是两条路跑路，传统科研体制速度不快，但是贵在能坚持。现在又加进了民营产品研发体制，类似华为的研发人员效率大家应该都是服的。 如今微电子被大量挖人，那么证明两套体系也在互通有无。等于民营企业是在科研体系的基础上开始开发了，并非白手起家一点技术积累也没有。我们毕竟也能弄到90纳米了。

4资源体系   这个是比较难的，如果整体体系都要我们自己打造，的确是麻烦了点。 当然这也是废话，如果不是老外一直限制着，光刻机我们也早追上去了。要是镜头啊，光源啊全球敞开供应，我们也可以2年搞出asml。 不过也不用担心，我们的工业人口足够多，就算分个几十万高端人才在这个光刻机上面也是小意思。 需要的只是时间。

可以类比是发动机

从16年立项专门建立航空发动机公司，一直缓慢步伐了几十年的中国发动机显然也加快了步伐。如今的进度不说完全跟上美国，至少排前三是没问题的了。

芯片产业只怕更快，因为民用体制参与的更多。。

这里不引入国家研发和民用研发体制之争。 国家科研并没有紧迫感，有些也没明确目的性，科研主要是为了摸方向，更注重探索。民用的则是在明确路径方向后，更注重效率，更关心结果，24小时停人不停工的开发。

本评论由用户“雾满拦江”推荐，来自《科工力量：凭借一国之力能搞出光刻机吗？》一文。内容仅代表用户观点，标题为雾满拦江用户添加，更多热乎讨论请移步原文。