新光刻机技术上不必高估，但意义上不宜低估
肆意追风
只聊常识，别吹技术。09-18 16:22
【本文由“糊稀烬”推荐，来自《关于国产新光刻机的猜想》评论区，标题为小编添加】
新光刻机技术上不必高估，但意义上不宜低估。
目前国际上最高水平的光刻机是ASML，分辨率13.5，第二名是尼康，分辨率38，第三名就是我们新光刻机，65，第四名佳能，90。由于新光刻机是干式的，改成浸润式就能提高到45左右的水平。
要知道，这台新光刻机大概就是我们现在在国际市场上能够进口的最好光刻机的水平。加上过去进口的光刻机，我们手上最先进的光刻机大约也就是尼康的水平。而我们已经用这种水平的光刻机制造出了7nm乃至5nm芯片。
所以国产新光刻机主要适用的芯片就是28nm，努努力到14nm。
此外，不易低估这台新光刻机对国际市场的冲击力，因为目前整个国际光刻机市场上，我们是独一无二的超级买家，
