佳能：无法卖到中国！

11月8日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10。由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，或将成为中国绕过美国限制来制造尖端制程芯片的可行方案。但是，佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示，该设备无法出口到中国。

据外媒报道，佳能执行长御手洗富士夫受访时表示，Canon 最新 NIL 技术将帮助没有大量资源的小型半导体厂获得先进芯片制造技术，「机台价格将比 ASML 极紫外光（EUV）微影设备少一位数，最终定价尚未决定。我不指望 NIL 技术会超越 EUV，但相信会创造新的机会和需求，目前已收到许多客户的询问」。

由于曝光设备昂贵，数值孔径为 0.33的 EUV 系统造价超过 1.5 亿美元，因此只有少数资金雄厚的公司才有能力投资这些工具，Canon 也暗示，NIL 设备成本将在约 1,500 万美元，为小公司在先进制程打开新大门。

据悉，传统 DUV 和极紫外 EUV 曝光系统使用特殊的光掩膜将电路图案投射到抗蚀层芯片上；奈米压印曝光技术使用的掩模（或模具）已将电路设计图案化，然后直接印制在芯片抗蚀层上，这种方式不需透过光学系统来传输图案，可更精确地将复杂电路设计从模具复制到芯片。

不过，曝光技术可一次加工整个芯片，NIL是连续制程，速度可能较慢。此外，NIL 在压印步骤中，模具与基底直接接触，容易产生缺陷，进而影响制程的产量和可靠性。

总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商，同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备，每台成本高达数亿美元。

虽然目前在光刻机市场，还有尼康和佳能这两大供应商，但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市场份额仅有10%左右，ASML一家占据了90%的市场份额，并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。

值得注意的是，在美国施压下，ASML被禁止出口 EUV 设备给中国客户，日本也同样扩大出口限制，但没有明确指出奈米压印曝光技术。不过御手洗富士夫认为，公司设备同样无法运往中国，「我的理解是，超过14nm技术的任何产品都禁止出口，因此我们将无法销售」。日本经济部官员表示，无法就出口限制对特定公司或产品的影响发表评论。

近十年来，Canon 一直与大日本印刷株式会社和内存芯片厂铠侠合作研究 NIL 制程。新设备除了让芯片制造商降低对代工厂的依赖，也使台积电、三星等大厂有机会生产小批量芯片。Canon 表示，这种设备所需的功率仅 EUV 设备 1/10。