应对美国科技脱钩,中国要下定狠心做这件事

  • 实际上国家早已想办法,据消息2021年中芯国际,在北京亦庄搭建非美化28nm制程的产线,光刻机用的就是上微的DUV。(有的说,上微的DUV并未成功;有的说,国家现在不对外公布进度)
    另,2022年上半年,上微高调宣布下线一台2.5-3D封装光刻机,还举行了隆重的下线仪式。该机子就是用于芯片堆叠,部分绕过EUV光刻机的瓶颈,解决高端芯片的来源问题。

回复1

  • 在北京亦庄搭建非美化28nm制程的产线,这个可能是真的。但是光刻机用的就是上微的DUV,这个可能就是假的。华卓精科是做光刻机的核心部件工件台的,他前段时间出了一个报告,主要是发想上市没有成功的牢骚。他说65纳米的干式光刻机工件台已经成功,但是浸润式的还在研发,浸润式的难度高、投资大、风险大,影响了公司的财务报告,不给上市就停了浸润式的研发。反正靠65纳米的干式光刻机工件台公司也可以很好的生存。
    浸润式光刻机是28纳米制程必须的技术,所以这个报告透露出的最乐观的估计就是65纳米的光刻机可能已经没有问题了,工件台已经发货给下游集成企业了,包括上微,如果亦庄的非美化产线是真的,那么大概率是65纳米的。
    此外还有一个问题,ASML不仅仅是集成商,ASML自己研发工件台,中国的上微单搞集成,对机器的部件和生产线的理解恐怕天生就比不上ASML。中国反而应该让工件台的研发部门来集成光刻机,这样效果可能更好。
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