“韬定律”的历史意义！任正非在新闻联播露脸的原因找到了

任正非在新闻联播露脸的原因找到了

今天上午，华为公司董事、半导体业务部总裁何庭波在上海发布了“韬（τ）定律”，预计到2031年，基于该定律的高端芯片晶体管密度将达到1.4纳米制程的同等水平。

啥意思？简单说，过去芯片性能靠把晶体管做得更小来提升，这就是摩尔定律。但现在尺寸快做到物理极限了，再小下去成本太高、效果不明显。

华为提出的“韬定律”换了个思路：不硬拼尺寸，而是通过“逻辑折叠”等技术，缩短信号在芯片里的传输时间、提高逻辑密度，从而让一颗芯片上集成更多晶体管。

他们用自己6年里的381款芯片验证了这条路走得通。

按照这个定律，华为的目标是到2031年，不用2纳米、1.4纳米那种极紫外光刻机，也能做出相当于1.4纳米工艺的晶体管密度。这跟现在流行的“把多颗小芯片拼在一起”的先进封装不一样——韬定律是单颗芯片内部的革命，能大幅降低对高端光刻机的依赖。

以后评价芯片不再只看“几纳米”，中国在半导体领域也开始自己定义发展方向了。

任正非刚刚罕见地在新闻联播露面，估计就是这个原因。

这件事有几个历史性意义：

1）中国第一次定芯片规则。以前跟跑摩尔定律，现在华为提出“韬定律”，自己出题。

2）纳米竞赛过时了。不比谁刻得细，比谁跑得快，绕开EUV光刻机封锁。

3）华为输出玩法，国产链重估。六年量产381款芯片，不用追最顶尖制程，国内厂商都能上车。

贩财局