台积电、三星考虑在美国建3纳米、5纳米芯片厂

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  • asml已经说了DUV供货不需美国许可,也就是说DUV光刻机不含美国技术。但是哪怕DUV光刻机不含美国技术在指令集和基础材料等领域也在被卡脖子。另外DUV对比EUV在20nm以内的制程上差距明显,中芯做14nm采取的是用DUV多次曝光,良率会比EUV低得多,成本也会高出不少。
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