中芯国际回应

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  • 不算乐观。
    上微集成的193nm浸没式光刻机马上/立刻要开始总装了,不久就能下线,后面就是产线设备和工艺调试,考虑到是新设备,先达到28nm这个最低目标吧。
    这型目标高度聚焦的设备,功能和性能指标与既有外商成熟设备的兼容性应当很好,对于己具备工艺能力的芯片厂/团队来说,工艺适配可以期望只是个类似搬迁设备的过程。(这个才是乐观,但是有理据的)
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