上海光机所多项光刻项目取得了重要进展，光刻分辨率增强技术性能优于ASML

2019年，实验室承担的多项02专项项目取得了重要进展，承担的“照明系统研制与小批量产品生产能力建设”项目在28nm照明系统产品研制已进入制造阶段，110nm照明系统产品研发已完成系统性能自测，正在集成阶段；承担的02专项“浸没光刻机多通道像质检测技术研究”项目完成了9通道波像差的并行检测；

计算光刻科研任务的SMO关键图形筛选技术（光源掩模联合优化(SMO)是关键的光刻分辨率增强技术之一。掩模版图包含成千上万的图形,数据量大,针对全掩模图形的SMO需要耗费大量时间,时间成本高。一般利用一定方法选出少量具有代表性的图形,针对代表图形进行SMO,从而较大程度地提高优化速度,同时将优化后的工艺窗口损失控制在可接受范围内。），

性能优于ASML公司计算光刻软件中的同类技术。同时，实验室在计算光学成像技术方面取得了重大进展，利用深度学习方法实现了透过光学厚度为13.4的散射体成像。 

2019年，实验室发表学术论文45篇，其中在《Optics Express》、《Applied Optics》、《optica》等国际光学领域一流期刊上发表SCI论文20余篇。申请国际国内发明专利36项，获授权发明专利32项。

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假如真的发生了，相信台积电在很短的时间内可补上该空缺。”刘德音用这样的表述安抚股东。他还强调，台积电短期内不会改变使用美国半导体设备生产（关键是无法摆脱），正因为与美国半导体设备厂商合作，才能保持技术领先（设备 技术 股份 市场方方面面都依赖欧美的马甲代工厂）。而技术领先是其优先目标，也是其在面对大国博弈的最好抗衡手段。