金融时报：中芯国际正测试浸没式技术的28纳米国产深紫外光刻机（DUV）

《金融时报》引述两名知情人士报道，中芯国际正测试一台采用浸没式技术的28纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并将利用“多重曝光技术”生产7纳米晶片，也可能以较低的良率生产5纳米晶片，但无法进一步推进到更先进制程。

这款深紫外光刻机由国资背景的上海起步公司宇量昇制造。知情人士透露，虽然宇量昇设备的大部分组件已实现中国国产化，但部分零部件仍需进口，公司正努力推进所有部件国产化。

据知情人士补充，尽管中芯国际的早期试验结果较为乐观，但这款设备能否以及何时用于大规模晶片生产尚不确定。

报道称，新的深紫外光刻机通常需要至少一年时间进行多次调整，才能实现足够稳定性和良率，从而用于量产。

迄今为止，中芯国际等中国晶片制造商一直依赖荷兰光刻机巨头阿斯麦生产的设备，但由于美国出口管制，新机型的获取近年来受到限制。中国本土厂商制造的深紫外光刻机则相对落后。

报道指出，如果中国能够生产先进深紫外光刻机，标志着北京在突破美国晶片出口管制、降低西方技术依赖、提高先进AI处理器生产能力方面取得重大胜利。

不过，中国仍缺乏最先进的极紫外光刻机（EUV），如果要生产出能与美国晶片巨头英伟达竞争的尖端晶片，这将是更难突破的瓶颈。