不仅欧洲企业在打造去美化生产线，甚至日本芯片企业也在搞去美化

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不仅欧洲企业在打造去美化生产线，甚至日本芯片企业也在搞去美化。1997年，Intel和美能源机构共同发起，成立EUV LLC，汇聚了美顶级的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家级实验室，联合摩托罗拉、AMD等企业，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV光刻技术。为了限制日本企业加入高端光刻机俱乐部，美国拒绝了尼康等日本光刻机企业的申请，初期也拒绝了ASML的申请，后来ASML出让了股份，保证55%零部件会从美国供应商处采购，并定期接受审查，最终加入了EUV俱乐部。可以说，EUV光刻技术是美国的看家本领，但在EUV技术之前，光刻机的王者是日本的佳能和尼康。即便是现在，佳能和尼康依然在光刻机市场占据约20%左右（数量）的市场份额。芯片技术并不像教科书，只有唯一解。在这条技术路线上落后，不见得不能从其他技术绕道超车。

10月4日消息，日经新闻报道，光刻机供应商佳能近日宣布，将投资超过500亿日元（24.6亿人民币）在日本新建一座半导体设备工厂，目标将当前半导体设备产能提高一倍，这是佳能21年来首次扩大光刻机生产线。日本铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，铠侠已掌握15nm量产技术，目前正在进行15nm以下技术研发，预计2025年达成。尼康计划在2025财年（截至2026年3月）将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年（截至2022年3月）3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。你猜，佳能和尼康的大规模扩产，是为了卖给谁？