泼个冷水，国产光刻机最大的问题是良品率低

泼个冷水，国产光刻机最大的问题是良品率低，国产的2台SSA600/20型光刻机，到现在都没有解决良品率问题，而且估计的2—3年。。。28nm的可想而知。。。目前先使用尼康的90nm先跑起来，验证华为设计能力。。。年底上国产28nm，解决良品率问题。。。

另外EDA其实问题不大，华为很强大，7nm的EDA已经开始验证。。。这个肯定在硬件之前搞定。。。

当前的问题在于如何保持华为的芯片设计能力不退后/我早说了，必须建立一条小型工厂，完全去美化，用于华为芯片流片和验证。。。至于华为的资金问题，建议设立专项基金，以10年为期，补助华为尤其是科研人员的待遇和相应的研发经费。。。估计1500亿差不多一年。

没想给我把评论换成帖子了，那就多说几句。。。

国产光刻机90nm现在产了2台，里面国产化只到60%大概，一味的求纯国产目前是行不通的，必须团结日欧，尤其是日本，日本的半导体生产设备这些年一直被美国打压，钱赚的越来越少，科研投入也少，所以走下坡路在，但还是有深厚底子的。

要实现去美化，而不要求纯国产，反击美国另一面的目的，就是团结日欧，以斗争求团结。。。

半导体生产设备的突破，需要海量资金，长期投入，10年为期。

而且不单单是生产设备，光刻胶这些生产原料也要投入。好在除了美国，还有日本。目前要防止美国禁止日本向中国出口半导体生产设备，一味去求日本顶住压力是不行的，还是前面那句话，以斗争求团结。

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