一个有待证实的好消息

今天在头条上看到一段视频,关于国产光刻机的信息。

国产浸没式深紫外光刻机SSA/800-10W今年就会下线首套,可以满足11纳米制程。

长春光机所还在做基于哈工大DPP-EUV光源的EUV曝光机,近两年可以下线。

以上信息未经证实,不过从信息中有型号代号,信息的可信性还是比较高的。

希望有网友指正。

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