“不把光刻机卖给中国,大概3年后中国就能掌握这个技术”

  • 10年?2021年最先进的芯片工艺是3nm,所使用的光刻设备是极紫光光刻机——EUV,而现在中国自主的光刻机事实上是没有的,90nm制程的上海微电子的光刻机只是实验室产品,28nm制程的DUV光刻机能否在2022年按期成功验收还是未知的。即便是2022年或2023年完全验收,等到投产商用提高良品率最快也要2027年,而国产EUV光刻机连立项都没有。所以说,哪里来的“10年后”呢?

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