国内存储厂国产化率逐步提升,国产光刻机压力仍很大

看了下研究机构统计的一向是产线国产化研究标杆的国内某存储厂今年1-7月初(只是到7月初)的设备招标结果,各个主要环节全部有国产设备中标,

氧化,薄膜沉积,刻蚀,退火,清洗,CMP等都有,一向国产化率极低的检测环节也有上海睿励科学仪器中标。数了下总共有八家国内公司中标。

不过以上环节的进度有快有慢,

有的环节,例如刻蚀,氧化,清洗等的国产设备正在逐步走过产线验证环节,开始进入重复购买阶段了。

有的环节,国产还只是提供了其中部分的设备,例如检测环节,需要尺寸检测和缺陷检测不同设备,睿励中标的是尺寸检测设备(其中的膜厚检测),国产设备还需要继续补齐。

唯一还没有国产中标的大环节就是光刻,光刻机总共中标29台,19台ASML用于高端制程,10台佳能用于低端制程。

该存储厂从成立以来到2020年7月初,累计宣布中标的2048台设备中有290台是国产,累计占比14%。这个国产化比例预计还会快速提升,从国内半导体设备厂家的财报就可以看出来。

最后,上海微电子压力很大,按照时间节点要求,国产光刻机必须在今年底或者在明年初完成总装,然后在2021年底和2022年初要完成测试和产线验证,2022年开始产线量产,拖到2023年就太晚了。

另外,全球目前有EUV光刻机需求的,就是台积电,三星,英特尔,中芯国际四家,台积电是大头。目前国产EUV光刻机研发没有太多消息,看什么时候能有消息放出来。

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