​国产光刻胶的关键战场，在这里

并不像该文作者所说的我国光刻胶产业起步较晚，应该说，我国的光刻胶研发起步是很早的，并在20世纪70年代就与日本同步，光刻胶技术一度处于世界一流水平。但随着改革开放产业政策的转向，就如同大飞机、光刻机等许多领域一样，光刻胶的研发也被尘封了起来。时间来到2023年，日本的JSR、TOK、住友化学、信越化学在中高端光刻胶上【KrF（248nm）、 ArF（193nm）、 F2（157nm），以及最先进的 EUV（13.5nm）用光刻胶】占据着统治地位，美国陶氏化学只是分了一杯羹。
●中国的“北京科华微电子公司”是全球生产光刻胶排第八的公司，也是“国家02专项”的承担单位，早在2020年KrF（248nm）光刻胶销售就达286万元，是唯一可以批量供应KrF光刻胶给8寸和12寸代工客户的本土光刻胶公司。KrF光刻胶在2023年已经接近10%的预期占有率，i线产品接近50%的占有率。

●2015年09月21日成立的徐州博康公司，是中国高端光刻胶研发生产领域里的后起之秀，2021年新年伊始，就开始实施“扩大产能和延伸产业链”的项目工程，已经在2023年6月份就将公司新研发成功的ArF（193nm）光刻胶投入量产，当年目标是1100吨，并新增10000吨电子级溶剂生产线。
●早在2020年底，南大光电公司自主研发的ArF（193nm）光刻胶产品就成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，产业化就已取得关键突破，并拿到国产光刻胶的首个订单，当年年产能就达25吨。