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  • 两年内上5nm,目前看在光刻机方面只有两条路,要么华卓精科为主导猛提一把套刻精度走多重曝光的技术路线,要么EUⅤ光源和光学系统及光刻胶大幅提速很快搞定,要么就只能是大家都不知道的黑科技。

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