网上纷传华为要造光刻机

刚才在“头条”上看到网上传华为正在着手研发光刻机，他们到处挖人，已经把上海微电子的人快挖光了，而且华为不仅仅是研发光刻机，也在搞EDA软件。 

我认为，华为如果真的这么整，光刻机可能3-5年就能出来，因为EUV光刻机的关键部件像光学系统已经通过国家验收，双动工作台也已经出来了，至少纸面上的指标可以用了，现在最大的问题是系统集成和调试。这个跟领导力有关，而我相信华为的领导力水平。

华为现在面临美国的封锁打压已经不能接受上海微电子按部就班地发展，必须采取跨越发展，以华为的领导力和资金投入，肯定可以大大地加速光刻机的研发进度，我估计3-5年中国的EUV光刻机就可以问世，届时中国将不再有半导体卡脖子的技术瓶颈了。